18960685812
去百度,只能查到SP光刻机高大上的新闻,会有一种ASML和台积电瞬间被秒杀的错觉。然并卵,我们真正需要了解的是这个机台到底能不能用,还好互联网上总有大神会为我们揭开一点神秘的面纱
一,sp光刻和现有的工艺流程冲突还挺大的,不过这个应该还是小问题,如果能够降低成本,资本家们还是愿意去折腾工程师们的。
二,表面等离激元的调控还是比较困难的,最终所能得到的曝光图样会非常受限。如果想用在gate或者metal层应该非常困难,也许可以在contact或者sadp的cut层试上一试?同时sp难以调控会使得opc修正极其困难。
三,sp是利用近场效应,我之前也试过蚀刻出深亚波长尺度的图案,但是纵向方向的蚀刻深度巨浅,这是sp的本身物理性质所决定的。水一水文章问题不大,但是在光刻流程中,必须要在光刻胶或者hard mask制作出图案,这两种东西通常都是上百纳米厚,光用sp压根不可能在保证高精度的情况下刻。
四,我之前想过如果对应波段的超构材料研究足够深入,把hard mask层用超构材料制作,说不定可以获得足够的蚀刻深度,但是这种方法对于不同版图的兼容性绝对是灾难。况且满足这种条件的超构材料放开脑洞想都很难实现,还要满足hardmask需求,还要表面平整,简直不可能。
标签:深圳激光刻码机
关注微信平台