浅谈一下SP光刻机有哪些光电所？

去百度，只能查到SP光刻机高大上的新闻，会有一种ASML和台积电瞬间被秒杀的错觉。然并卵，我们真正需要了解的是这个机台到底能不能用，还好互联网上总有大神会为我们揭开一点神秘的面纱。

　　一，sp光刻和现有的工艺流程冲突还挺大的，不过这个应该还是小问题，如果能够降低成本，资本家们还是愿意去折腾工程师们的。

　　二，表面等离激元的调控还是比较困难的，最终所能得到的曝光图样会非常受限。如果想用在gate或者metal层应该非常困难，也许可以在contact或者sadp的cut层试上一试？同时sp难以调控会使得opc修正极其困难。

　　三，sp是利用近场效应，我之前也试过蚀刻出深亚波长尺度的图案，但是纵向方向的蚀刻深度巨浅，这是sp的本身物理性质所决定的。水一水文章问题不大，但是在光刻流程中，必须要在光刻胶或者hard mask制作出图案，这两种东西通常都是上百纳米厚，光用sp压根不可能在保证高精度的情况下刻。

　　四，我之前想过如果对应波段的超构材料研究足够深入，把hard mask层用超构材料制作，说不定可以获得足够的蚀刻深度，但是这种方法对于不同版图的兼容性绝对是灾难。况且满足这种条件的超构材料放开脑洞想都很难实现，还要满足hardmask需求，还要表面平整，简直不可能。

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