国产光刻机究竟处于什么水平？

前段时间美方再次对华为打压升级，这也让芯片和国产光刻机再次成为人们热议。而我们国产光刻机究竟是什么水平？

　　其实对于这个国产光刻机究竟是处于什么水平，一直还是饱受争议，这里笔者要说大部分人混淆了两个机器的概念。在芯片生产中所需的蚀刻机确实达到了领先水平，中微半导体做的蚀刻机已经达到了5nm水平，目前正在向着3nm工艺突破

　　而国产光刻机还是以上海微电子装备股份有限公司水平比较领先，目前来说上海微电子的水平还是在90nm水平。而最近有一些报道说2021年上海微电子要做出11nm的光刻机，这也让人比较振奋。其实这里也要认清现实，这个报道可信度并不高，因为目前上海微电子主要方向还是要突破28nm，也就是或将在2021年推出28nm光刻机。

　　而这里大部分朋友就是混淆了这两个不同机器（光刻机/蚀刻机）的概念，才导致对于光刻机目前什么水平有疑惑。网上一些其它报道在光刻机领域各种先进突破，其实大多数还是基于实验室阶段，也就是想要真正投入商用还需要很长一段时间去验证。

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