光刻机和刻蚀机哪个难？

ASML EUV光刻机1.2亿美金，蚀刻机应该也是在1千万的级别，难度差距不是一点点。

　　另外光刻机里面的光源系统，纯硬件水平要达到几个纳米，需要用到超高功率的激光才能实现，功耗水平很高，同时光源的均匀化需要很高的反射材料，对材料以及仪器的环境要求更高。

　　EUV光刻机的话，目前市场可以做到的也就是ASML，Nikon，Canon，其中ASML更是占到了8成的市场份额。

　　国内目前仍然是求着人家买光刻机的地位，7nm的光刻做出来的芯片产品，从ASML的布局看，已经是在为2030的下游产品布局的了。

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