光刻机的主要结构特点有哪些呢？

随着现代科技的迅猛发展，如今人类已经可以做到对光的有效控制，甚至可以把光的足迹留下，使之呈现在微观视野里。例如被称作信息时代制造的光刻机，便是人与光较量之下的智慧结晶。

　　光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。接下来小编带你了解光刻机的主要结构特点。

　　1.采用三爪和球气浮同时找平，无论大片、小片调平精度均高；

　　2.具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；

　　3.自动分离对准间隙和消除曝光间隙，间隙分离可达500μm

　　4.高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储；

　　5.电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好；

　　6.曝光波长采用纯净365nm，冷光照明(曝光面能量15mW/cm，温度小于30度)；

　　7.对准完成，自动消除曝光间隙，无横向漂移且可通过监视器观察；

　　8.快门可以单独开启，也可以数字设定自动曝光(设定范0.1s-9999.9s)；

　　9.采用直流汞灯，可调节光的能量密度；

　　10.汞灯具有高亮度和“待机”两种方式，即曝光时采用高亮度照明，而不曝光时采用低亮度的“待机”，从而延长了汞灯寿命；

　　11.光刻机外形美观精致，性能非常可靠；

　　12.上下片、翻版十分方便，自动化程度很高，操作简便。

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